1200度真空脱脂烧结炉

时间： 2024-09-07
该1200度真空脱脂烧结炉主要应用于粉末冶金，陶瓷金属化，透明陶瓷，氮化硅半导体等行业气氛 真空脱脂烧结，包括铜，钨，钛合金等金属以及由难熔金属组成的合金材料的真空烧结，回火及退火工艺。 ..

2600度高温石墨加热炉

时间： 2024-09-07
2600度高温石墨加热炉可采用石墨加热，石墨炉膛，温度均匀性好；高温红外测量技术，控温准确，误差小；配有真空系统和冷水系统，可接外循环外冷水。适于工艺气氛：Ar。电炉结构可选立式、卧式、升降式。..

2800度真空石墨化炉

时间： 2024-09-07
2800度真空石墨化炉是一种高性能的高温处理设备，主要用于碳材料的石墨化处理，以及其他需要在高温和真空或保护气氛环境下进行的材料处理。..

900℃热风循环炉

时间： 2024-09-03
900℃热风循环炉配有310不锈钢1000度高温热风循环风机，热风循环炉是一种工业和实验室中常用的热处理设备，它通过内置的风机和风道系统实现热风的均匀循环，确保烘箱内各个角落的温度保持一致。这种设备通常具有高效..

1200度高真空管式炉：钛合金根管锉高真空管式热处理炉

时间： 2024-08-26
1200度高真空管式炉主要技术参数：设备名称1200度高真空管式炉（开启式、智能型）电炉型号HTF200-1200HTF200-1200IIHTF200-1200III温控系统10英寸液晶触摸屏北京昆仑通态，可预设多达百条工艺程序，并可编辑不同 ..

1700度高温箱式马弗炉:容积80L

时间： 2024-08-23
1700度高温箱式马弗炉:容积80L ..

1200℃气氛保护热处理炉

时间： 2024-08-12
1200℃气氛保护热处理炉是一种在高温条件下提供特定气氛环境的热处理设备，广泛应用于多种工业和科研领域。其主要用途包括材料的烧结、退火、热处理和晶体生长等工艺。这种炉子能够在无氧或低氧环境中进行加热，以避..

箱式气氛炉：箱式气氛保护加热炉

时间： 2024-08-03
箱式气氛炉为箱式气氛保护加热炉，箱式气氛炉是一种用于高温处理的设备，广泛应用于烧结、熔化和分析金属、非金属及其他化合物材料。..

1300℃三管管式炉：三通道管式炉

时间： 2024-08-03
1300℃三管管式炉又称三通道管式炉，该1300℃三管管式炉采用卧式水平设计，可以水平并列放置三支炉管。1300℃三管管式炉采用硅碳棒加热，加热温度可达1300℃..

高温马弗炉可以烧制陶瓷吗

时间： 2024-08-03
高温马弗炉可以烧制陶瓷吗？高温马弗炉可以用于烧制陶瓷。但是需要选好高温马弗炉的温度与温场环境。在高温下，陶瓷会经历从烧成到融化的过程。当温度达到陶瓷的烧成温度时，陶瓷会进行高温烧结，形成坚硬的陶瓷制品..

1200度陶瓷纤维马弗炉

时间： 2024-08-03
M6 12人工智能箱式电阻炉为洛阳西格马生产的1200度陶瓷纤维马弗炉1200度陶瓷纤维马弗炉是一种高效节能的实验室高温实验设备，广泛应用于科研、教育和工业领域。适用于热加工、水泥、建材行业进行小型工件的热加工或..

1000度排胶预烧炉：箱式排胶炉

时间： 2024-07-24
排胶预烧炉为箱式排胶炉主要设计用于氮化铝、氮化硅、氧化铝、氧化锆、介质陶瓷的精细陶瓷元件的脱脂和预烧结一体化工艺，也可以用于陶瓷粉体材料，陶瓷芯、磁性材料、LTCC,MLCC, NTC、NFC、陶瓷芯等其他电子元器件..

1100度旋转管式炉

时间： 2024-07-22
1100度旋转管式炉采用双层风冷结构，石英或99刚玉炉管，不锈钢法兰密封（法兰上安装有气嘴、阀门和压力表），能快速加热、冷却、转动。..

1200度真空旋转管式炉：管式粉末烧结炉

时间： 2024-07-19
1200度管式粉末烧结炉为1200度真空旋转管式炉，​1200度真空旋转管式炉是一种高温热处理设备，可在真空条件下进行炉内材料的煅烧、退火、烧结等处理。其主要特点是炉膛内置旋转管，通过旋转管内的转动，可以实现材料..

1200度管式加热炉：管式实验炉

时间： 2024-07-19
1200度管式加热炉为实验室管式电阻炉，1200度管式加热炉是一种用于高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火等的设备。 ..

1200度高温管式气氛炉

时间： 2024-07-17
1200度高温管式气氛炉为实验室用真空管式电阻炉。1200度高温管式气氛炉工作原理主要是通过加热元件将电能转化为热能，对炉管内的样品进行加热。炉膛采用高纯度的氧化铝纤维或其他耐高温材料制作，以保证在高温下的稳..

1200℃开启式双温区管式炉

时间： 2024-07-17
1200℃开启式双温区管式炉设计温度为1200℃，加热温度可达到1200℃，具有2个温区，每个温区可通过调节两个独立的控温程序，使炉管内温度场形成一梯度。采用PID控制器，可以设置30段升降温程序。..

1200度双温区管式气氛炉

时间： 2024-07-16
双温区管式气氛炉具备两个独立的加热区域，每个区域都可以单独控制温度，形成温度梯度，满足不同材料的处理需求。 ..

1200度双温区管式真空气氛炉

时间： 2024-07-16
1200度双温区管式真空气氛炉是一台实验室用小型双温区管式炉。1200度小型双温区管式炉加热温度可达1150度，两个温区可以独立控温，温区长度可选220+220mm, 也可选220+440mm。可选择单设定点或30 段可编程控制器，..

1200℃低真空CVD石墨烯生长系统

时间： 2024-07-12
小型真空CVD石墨烯生长系统 ..