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热门关键词: 气氛管式炉 CVD系统管式炉, 双温区管式炉

实验室小型CVD系统管式炉哪家有?

  • 品牌:SGM
  • 别称:气氛管式炉
  • 类型:高温管式炉
  • 规格:双路、三路、五路混气系统
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    实验电炉CVD系统什么意思?CVD是Chemical Vapor Deposition的简称,是指高温下的气相反应,例如,金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解,氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法。
    真空CVD系统简称CVD系统,CVD系统由供气系统+管式炉+抽气系统 ,额定温度可以达到1200度、1400度、1700度,加热区间可以是单温区、双温区、三温区等,极限真空可以达到10-3Pa,供气系统是流量调节可以是质子流量计或浮子流量计,混气路数可以是2路、3路、4路、5路相混合



    1700度管式炉

    这款CVD系统是由8路供气系统+SGM1200双温区管式炉+真空系统组成

    SGM1200双温区管式炉:以硅碳棒或电炉丝为加热元件,有两个加热区,采用双层壳体结构和宇电控温仪表,每个加热区能进行30段程序控温,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,炉管两端装有304不锈钢法兰,不锈钢法兰上安装有气嘴、阀门和压力表,抽真空时真空度能够达到10-3 Pa,该炉为卧式,两个温区可以独立控制、设置不同的温度,使用方便,操作简单。该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品.。

    实验室想买一套CVD的设备请问管式炉什么牌子?洛阳西格马高温电炉专业生产CVD管式炉CVD实验真空炉。

    1200℃单温区CVD系统主要技术参数:

     1200℃管式炉CVD系统

    单温区、双温区、三温区

    SGM-  CVD-12L

    1200℃

     420mm

    210mm

     Φ50/Φ60/Φ80/Φ100mm

     2.5Kw

     220V

     厦门宇电 控温系统50段程序控温;

      ±1℃

    <1200℃

    密封法兰与管件连接的地方采用多环密封技术,在密封法兰与管外壁间形成了密封,在管件外径误差较大的情况下密封仍然有效,该密封法兰的安装只需在*次使用设备的时候安装

     质量流量计

     3路(可根据具体需要选配气路数量)

    0-500sccm(标准毫升/分,可选配)氮气标定

     ±1%F.S

    ≤4sec

    5-45℃

     进气压力0.05-0.3Mpa(表压力)

     采用KF快速连接波纹管、高真空手动挡板阀及数显真空测量仪

     中真空

     10Pa-100Pa

     双级机械泵理论极限真空度3x10-1Pa,抽气速率4L/S,出气口配有油污过滤器,额定电压220V,功率0.55Kw

                       340×580×555mm

                  480×770×605mm

                                                                                   530x1440x750mm

                                                                                            230kg


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