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智能Plasma增强CVD系统
该款设备是智能型Plasma增强CVD系统（PECVD），连续可控温度以及Plasma强度等，配备真空系统，可以低压条件下实现工艺，PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光相对均匀等效，很好的解决了传统等离子工作不稳定状态。
本系统借助于辉光放电产生等离子体，辉光放电等离子体中，电子密度高，通过反应气态放电，有效利用了非平衡等离子体的反应特征，从根本上改变了反应体系的能量供给方式。
真空气氛管式电阻炉技术参数..
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人工智能箱式电阻炉技术参数一、烧结性能1、炉膛尺寸(mm)：宽200*深300*高120（8L）2、最高温度：1300℃ 3、温度稳定性: ±1℃4、升温速度：0-30℃ 分钟..
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人工智能箱式电阻炉技术参数..
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据悉，真空高温电炉适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火、模具加工与微晶化、晶体的精密退火、粉末冶金、陶瓷釉料制备、纳米材料的烧结、金..
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一、操作准备1 必须穿戴好必要的防护用品。比如：工作服、隔热手套、防强光线护目镜。2 准备好各种操作工具，禁止使用残裂、存在故障或不适用的工具，..
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马弗炉分类有好几种，按照温度分类可分为：低温马弗炉、中温马弗炉、高温马弗炉按照外形分类可分为：箱式电阻炉，管式电阻炉，井式电阻炉，坩埚炉等等用途范..
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