PECVD系统
高真空PECVD系统是由管式炉,真空系统、供气系统、射频电源系统等组成。系统主要应用于金属薄膜,陶瓷薄膜等,复合薄膜,石墨烯等生长。PECVD系统增加功能容易,可扩展等离子清洗刻蚀等功能,PECVD系统薄膜沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高等优点。
高真空PECVD系统能在石英管式炉内完成CVD乃至PECVD生长,又能直接将产成的晶体样品送入STM等分析装置进行测量,大幅提升样品品质,有效地提高了科研能力。
高真空PECVD系统是由管式炉,真空系统、供气系统、射频电源系统等组成。系统主要应用于金属薄膜,陶瓷薄膜等,复合薄膜,石墨烯等生长。PECVD系统增加功能容易,可扩展等离子清洗刻蚀等功能,PECVD系统薄膜沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高等优点。
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