化学气相沉积系统
PECVD等离子体增强化学气相沉积系统
PECVD利用低温等离子体在低气压下诱导工艺室的阴极产生辉光放电。这种放电可以将样品加热到预定温度,然后引入工艺气体。气体在等离子体的作用下发生一系列化学和等离子反应,在样品表面形成一层固体薄膜。
PECVD等离子体增强化学气相沉积系统
PECVD利用低温等离子体在低气压下诱导工艺室的阴极产生辉光放电。这种放电可以将样品加热到预定温度,然后引入工艺气体。气体在等离子体的作用下发生一系列化学和等离子反应,在样品表面形成一层固体薄膜。
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