实验室CVD系统:多路混气系统+真空系统-洛阳西格马高温电炉

实验室CVD系统:多路混气系统+真空系统

  • 品牌:SGM
  • 类型:高温电炉系列
  • 温度:
  • 规格:

产品详情

实验室CVD系统由供气系统+管式炉+抽气系统组成,实验室CVD系统采用常规管式炉配合相应的流量控制系统和配套真空泵实 现整套的气相沉积系统,加热可选 择1200℃、1400℃、1700℃各种温区管式炉,气体配置可选1路、2路、3路、5路浮子流量计或质量流量计,真空系统可以选择0.5-8升机械泵、扩散泵、分子泵机组。真空度可达10-5PA。洛阳西格马可生产四通道双温区cvd系统、炉膛可移动式CVD、PECVD系统设备。

CVD系统管式炉是一款小型化学气相沉积薄膜类制备设备,实验室CVD系统包括:供气系统集成、真空系统集成等。体现出体积小、操作方便、智能化程度高等特点。

炉膛可移动式CVD介绍:

炉膛可移动式CVD系统是一个特殊的双管CVD系统,是专门为在金属箔上生长薄膜而设计,特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究。通过滑动炉子可以实现物料的快速加热和冷却。

炉膛可移动式CVD技术参数:

CVD名称

1200℃双管滑道式CVD系统

电炉名称 炉膛可移动式双管管式炉

炉管尺寸

双石英管

外管:OD 100 x ID 96 x 1400 mm

内管:OD 80 x ID 75 x 1800 mm

加热区

220+220mm

供电电源

230V,单相,50HZ

功率

4.0 kw

加热元件

电阻丝

升温速率

0/20°C/min

热电偶

 K型

水冷系统

1.水冷机 CW-3000

2.水冷,密封双管的真空法兰:允许反应气体通过两管之间(10mm间隙)发生反应,冷却气体直接通入内管.

真空系统

1. 防腐数显真空计   

2. VRD/16旋片泵,抽速4L/S,含挡板阀 KF25接口,波纹管和箱体

双路流量计混气系统(可选质子流量计或浮子流量计)

CVD化学气相沉积系统质量流量控制器技术参数

名称

双通道

三通道

四通道

五通道

CVD化学气相沉积系统
多通道质量流量控制

工作温度:5~45ºC
额定压力:3x106 Pa
精度: ±1.5% FS
线性:±(0.5-1.5)%F.S

重复精度: ±0.2%F.S.
流量范围:
一路:1~199 SCCM
二路:1~499 SCCM
注意:其他流量范围的可定制,需额外费用

工作温度:5~45 ºC
额定压力:3x106 Pa
精度:±1.5% FS
线性:±(0.5-1.5)%F.S
重复精度:±0.2%F.S.
流量范围:
一路: 0~100 SCCM
二路: 1~199 SCCM 
三路: 1~499 SCCM 
注意:其他流量范围的可定制,需额外费用

工作温度:5~45 ºC
额定压力:3x106 Pa
精度:±1.5% FS
线性:±(0.5-1.5)%F.S.

重复精度: ±0.2%F.S.
流量范围:
一路: 0~100 SCCM
二路: 1~199 SCCM
三路: 1~199 SCCM
四路: 1~499 SCCM
注意:其他流量范围的可定制,需额外费用

工作温度: 5~45 ºC
额定压力:3x106 Pa
精度:±1.5% FS
线性:±(0.5-1.5)%F.S.
重复精度: ±0.2%F.S.
流量范围:
一路: 0~100 SCCM
二路: 1~199 SCCM
三路: 1~199 SCCM
四路: 1~499 SCCM
五-九路可按照客户要求定制

输入电源

 AC 220V/50Hz单相

功率

  23W

PLC触摸屏

CVD化学气相沉积多通道质量流量控制系统各通道的气路设定和查看都集中在触摸屏上 

机械压力表

有一机械压力表安装于前面板上,与混气罐相连接

 量程:-0.1~0.15 MPa 

针阀

316 不锈钢

通气管道

内部连接管道为Φ不锈钢管 

外部通气管道为Φ聚四氟管

混气罐

Φ80X120mm

截止阀及配件

·316不锈钢针阀 

 Φ6mm 不锈钢管

外形尺寸

 600mm(L)x745mm(W)x700mm(H)

质量认证

CE认证

质保期

一年质保期,终身维护



TAG:实验室CVD系统 
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